電鍍硬鉻中的水溶液是鉻酸，它是鉻涂層的來源。實踐證明，鉻酐的濃度可以在很大范圍內變化。例如，當溫度為45 ~ 50℃，陰極電流密度為l0A/dm2，鉻酐濃度為50 ~ 500克/升，甚至高達800克/升時，可獲得光亮的鍍鉻層。然而，這并不意味著鉻酐的濃度可以隨意改變，一般生產中使用的鉻酐的濃度在L50和400克/升之間。
　　電鍍硬鉻的鉻酐的濃度對鍍液的電導率起決定作用，可知在每個溫度下，鉻酐濃度對應于較高的電導率；隨著電鍍硬鉻的鍍液溫度的升高，隨著鉻酐濃度的增加，較大的電導率值向稍高的方向移動。因此，僅就電導率而言，應采用鉻酐濃度較高的鍍鉻溶液。

　　當使用電鍍硬鉻高濃度鉻酸電解液時，工件帶來的損失是嚴重的，這不僅造成不必要的材料消耗，而且對環境造成一定的污染。然而，低濃度鍍液對雜質金屬離子敏感，其覆蓋能力差。

　　鉻酐濃度過高或過低都會縮小獲得光亮涂層的溫度和電流密度范圍。鉻酐濃度低的鍍液電流效率高，常用于電鍍硬鉻。濃浴槽主要用于裝飾電鍍。雖然鍍液的性能與鉻酐的含量有關，但它主要取決于鉻酐與硫酸的比例。